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《半导体光子学与技术:英文版》
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2006年4期
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Design of Rapid Thermal Processing for Large Diameter Wafer
Design of Rapid Thermal Processing for Large Diameter Wafer
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摘要
在钨卤素灯的安排和晶片收到的发光的一致性之间的关系被讨论,并且一种axial-symmetricallamps-array被设计保证边上的照耀是近似一样的著名计算机生产厂商他晶片的中心上的。晶片对力量oftungsten卤素灯上的温度的大小数字地被计算。
DOI
wjv56rl9d7/473398
作者
YANG Hong-guan WEN Li-qun DAI Da-kang YU Biao
机构地区
不详
出处
《半导体光子学与技术:英文版》
2006年4期
关键词
大直径晶片
快速热处理
钨卤素灯
退火处理
分类
[电子电信][物理电子学]
出版日期
2006年04月14日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
半导体光子学与技术:英文版
2006年4期
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