摘要
镁合金在工业有大量应用；然而，他们的腐蚀电阻，穿电阻，和坚硬是相当差的，它限制他们的应用。Ti离子被金属蒸汽真空弧(MEVVA)植入进AZ31镁合金表面implanter。这金属弧离子来源有一根宽广横梁和高当前的能力。Theimplantation精力在45keV被修理，剂量在9x10~(17)cm~(-2)。通过离子培植，有在厚度的约900nm的Ti离子培植层直接在AZ31镁合金，它的表面性质极大地由改善了的表面上被形成。化学药品一些声明离子培植层的典型元素借助于X-rayphotoelectron光谱学(XPS)被分析，当离子培植层和阶段结构的生气部分形态学借助于扫描电子显微镜学(SEM)和X-raydiffraction(XRD)被观察时。Ti离子的腐蚀电阻的性质植入层被CS300P电气化学腐蚀工作站在3.5%NaCl答案学习。结果证明腐蚀电阻的性质显著地被提高，当腐蚀速度显然被减慢时。
出版日期
2007年02月12日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
