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2022年18期
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硅外延掺杂电阻率均匀性控制研究
硅外延掺杂电阻率均匀性控制研究
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摘要
摘要:
DOI
rj82l5o9j0/6739282
作者
孙信华
机构地区
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司 天津 300385
出处
《中国科技信息》
2022年18期
关键词
分类
[][]
出版日期
2023年01月07日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
中国科技信息
2022年18期
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