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超微细加工及设备

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摘要 TN30597010636大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测-等离子发射光谱法=Insitumonitoringetchprocessandend-pointforLSIbytheplasmaemis-

DOI wjvkz2mwd7/715374

作者

机构地区不详

出处《中国光学》 1997年1期

关键词等离子发射光谱法大规模集成电路在线监测中科院精密工程电子中心

分类 [理学][物理]

出版日期 1997年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

中国光学

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