摘要
摘要：本文研究了半导体行业废气的排放特征和处理技术。在半导体制造过程中，废气的来源包括制备气体、清洗气体、刻蚀气体、氧化气体、蚀刻废液和废水等。这些废气中含有氟化物、氯化物、氮氧化物、有机废气等有害物质，具有高浓度、低流量、易燃易爆等特点，对环境和人体健康造成潜在威胁。为了控制和治理半导体废气的排放，本文提出了一系列治理技术和方法，包括物理吸附法、化学吸收法、燃烧法和生物法等。其中，物理吸附法和化学吸收法较为成熟，已经在半导体行业得到广泛应用。燃烧法和生物法在半导体废气治理中也有一定的应用前景。
出版日期
2024年01月05日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
