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2010年5期
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Al/Ta纳米多层膜中的结构形貌稳定性演化
Al/Ta纳米多层膜中的结构形貌稳定性演化
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摘要
采用磁控溅射技术制备了调制波长从18-108nm的Al/Ta金属多层膜,并研究多层膜沉积过程中的截面结构形貌演化,实验表明,薄膜结构形貌演化分为四个阶段:孕育,萌生,发展和湮灭,可能是因为弹性失配引起的,并且随调制波长的增加呈现逐渐减弱的趋势。单向拉伸实验表明,这些结构形貌的非稳定区域严重影响力学行为,非稳区域往往是潜在的裂纹萌生区域。
DOI
rdxgmx294l/928297
作者
谢继阳;黄平;王飞;徐可为
机构地区
不详
出处
《纳米科技》
2010年5期
关键词
结构形貌稳定性
纳米多层膜
结构形貌演化
分类
[一般工业技术][材料科学与工程]
出版日期
2010年05月15日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
纳米科技
2010年5期
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