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Optical, Mechanical and Laser-induced Damage Threshold Properties of 1064 nm, 532 nm Frequency-doubled Antireflection Coating for LBO

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摘要 1064nm，532nm有在涂层和底层之间的SiO2的缓冲区层的加倍频率的antireflection(AR)涂层被电子横梁蒸发技术在锂triborate(LiB3O5或LBO)的底层上制作晶体。样品的剩余反射分别地在1064nm和532nm是0.07%和0.11%。粘附和样品的导致激光的损坏阀值(LIDT)比200mN和18.6J/cm2大。粘附的加强的机制和SiO2的缓冲区层的LIDT被考虑完整的塑料缩进讨论并且砍一部plated电影的理论，和分裂分别地由热吃惊应力导致了。

DOI 2d3o88nmd9/995219

作者 TAN Tianya;SHAN Jing;WU Wei;SHAO Jianda;FAN Zhengxiu

机构地区不详

出处《武汉理工大学学报：材料科学英文版》 2011年4期

关键词激光损伤阈值抗反射涂层 LBO SiO2涂层光学倍频

分类 [一般工业技术][材料科学与工程]

出版日期 2011年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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