简介：本刊主要刊登真空技术、表面与界面物理与化学、表面分析、电子材料、薄膜物理与工艺、真空冶金、等离子体科学与工艺等。主要栏目有：学术论文、综述评论、技术交流、工业技术、科研动态与学术活动、快报等。
简介：本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
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