简介：摘要：在我国工业生产及现代制造等相关领域中，均需用到晶态薄膜，且需求量呈增长趋势，应用范围也日益广泛化。高能脉冲的磁控溅射（HiPIMS）属于现阶段一种先进的制备技术，对低温环境下的薄膜制备有良好适用性。鉴于此，本文采取文献检索法，检索并整理关于此次论文研究的部分资料，阐述了常见几种晶态薄膜的基本优势及其应用领域，以此为基础，对高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）之下晶态薄膜的低温制备相关研究进展进行总结分析，旨在为业内相关人士提供参考。
试述高能脉冲磁控溅射低温制备晶态薄膜的研究进展
