简介:对市售和加固CMOS电路在四川原子核应用技术研究所的5.92×10^15Bq^60Coγ源上作了总剂量辐射特性的对比试验,其中市售的样品包括了北京半导体器件三厂的硅栅和铝栅CMOS电路及美国RCA公司的CMOS产品硅栅CD74HC20E,加固CMOS电路为中科院北京半导体研究所的CMOS/SOS(以蓝宝石为衬底)硅栅CC4012和CMOS/体硅金属栅CC4012。实验的γ剂量率在0.02-0.80Gy(Si)/s之间,它符合国家军用标准GJB762.2《半导体器件辐射加固试验方法总γ剂量辐照试验》所规定的实验剂量率范围。当辐照到预定的总剂量时,电路所有表征参数在20min内测量结束。
简介:TH7032005031635MOCVD-Ga0.4In0.6As0.85P0.15/InP分布布喇格反射镜的反射率=ReflectivityofMOCVD-Ga0.4In0.6AS0.85P0.15/InPdistributedBraggreflectors[刊,中]/蒋红(中科院长春光机所激发态物理重点实验室.吉林,长春(130033)),金亿鑫…∥发光学报.-2004,25(6).-686-690采用MOCVD方法,获得高质量的InP和较高质量的GaxIn1-xAsyP1-y外延层,通过GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长制备出在工作波长为1.55μm时具有较高反射率的分布布喇格反射镜。根据光在多层介质膜中传播的传递