简介：研究了振动加速度对1J22合金磁性能和微观组织的影响，以及表面镀TiN薄膜对1J22合金磁性能的影响。结果表明，合金磁性能随振动加速度的增大而减小；在以30g的最大加速度振动后，合金微观组织并无明显变化，其磁性能仍然符合国家标准要求；镀TiN薄膜可明显增大合金表面硬度，其由440Hv增至650Hv，但对磁性能影响较小。
简介：集成电路工业从一开始就在使用离子注入技术。如果不利用离子注入的固有的精确性就很难制造极大规模集成电路（VLSI）。特别是离子注入可精确地调整MOSFET的阈值电压。离子注入有三大优点：能达到晶片表面上掺杂剂均匀分布、可精确控制掺杂剂的深度及其分布、可精确控制掺杂剂密度。这些优点催生了所谓“掺杂剂分布工程”，它对早期CMOS的研制成功是一个关键因素。如果没有离子注入就不会有CMOS工艺的快速发展也就不会对我们的生活产生如此深刻的影响。
振动及表面镀TiN薄膜对1J22合金性能的影响研究
离子注入：适用于32nm和22nm器件的新工具
