简介:
简介:研究了FeMn/Co多层膜界面插入Bi前后微结构的变化。利用磁控溅射法制备了FeMn/Co多层膜,利用X射线小角反射和漫散射技术进行了表征,得到结果如下:插入Bi之前,在FeMn/Co界面处确实存在FeMnCo的成分混合存在,插入Bi之后,FeMnCo的成分中掺入了Bi。而且,在FeMn/Co界面处Fe,Mn,和Co的元素分布不相同。
简介:我们用全外反向掠入射衍射,研究了BaTiO3/SrTiO3(BTO/STO)超晶格(SLs)的界面应变和应变驰豫行为。在总厚度超过临界厚度的情况下,应变驰豫机制依赖于SLs中的单层厚度。当其小于临界厚度时,SLs整体驰豫;大于临界厚度时,SLs在其两组元界面上分层驰豫。但SLs总水平应变量均随着单层厚度的减小而增大。最小能量原理计算已支持上述结果。
简介:低温下用MBE方法生长了Ge/Si超晶格。X射线近边吸收限精细结构研究表明,Ge与Si再Ge/Si界面处存在化学混合。X射线反射及横向散射研究表明,Ge亚层上下表面的粗糙度呈反对称,下表面大的粗糙度来源于Ge向Si亚层中扩散形成SiGe混合组分结构:这种组分结构可以用一平均成份的SiGe合金层加以拟合,从而使得各亚层均有一个合理的粗糙度。旋转样品进行的X射线散射研究表明,这种SiGe的混合是各向同性的,这与透射电子显微镜的研究结构相一致。
简介:本文利用同步辐射角分辨光电子谱研究了f.c.c.Fe与Cu{111}之间的界面。观察到了位于表面布里渊区中K点附近的界面态,表明它是一个有序的界面。垂直出射的价带谱表明外来Fe原子对衬底Cu{111}的能带结构无任何影响。这与互混的Co/Cu{111}的结果不同,表明界面处不存在Fe与Cu原子之间的互混。
LB膜的界面相关及生长动力学
FeMn/Co多层膜界面插入Bi前后的微结构分析
BaTiO3/SrTiO3超晶格界面应变驰豫的研究
低温生长的Ge/Si超晶格界面结构的X射线散射研究
BaTiO3/SrTiO3超晶格界面结构与光电性能关系研究
用角分辨光电子谱研究有序和突变的f.c.c.Fe/Cu{111}的界面