简介:CharacteristicsofsiliconoxynitridesmadebyECRplasmas;CharacterizationandcomparisonofPECVDsiliconnitrideandsiliconoxynitridedielectricforMIMcapacitors;CharacterizationofsiliconoxynitridethinfilmsdepositedbyECR-PECVD;Characterizationofsiliconoxynitridesandhigh-kdielectricmaterialsbyangle-resolvedX-rayphotoelectronspectroscopy
简介:[篇名]3-inchfull-colorOLEDdisplayusingaplasticsubstrate,[篇名]AsignificantimprovementinmemoryretentionofMFISstructurefor1T-typeferroelectricmemorybyrapidthermalannealing,[篇名]Accuratereliabilityevaluationofnon-uniformultrathinoxynitridcandhigh-klayers,[篇名]Advancedgatedielectricmaterialsforsub-100nmCMOS,[篇名]AINfilmscpitaxialyformedbydirectnitridationofsapphireusingaluminumoxynitridcasabufferlayer,[篇名]Amorphoussilicon-oxynitridcsubmicronfibres,[篇名]CharacteristicsofCr-Al-N-Othinfilmspreparedbypulsedlaserdeposition.
简介:在硅酸盐、磷酸盐、焦磷酸盐或其混合电解液中对锆-4合金进行等离子电解氧化。通过实验确定合适的工艺参数,并运用电化学技术、显微硬度、SEM、XRD等技术对膜层性能进行表征。结果表明:在纯的硅酸盐电解液中得到的膜层很不均匀,且在添加磷酸盐后,膜层均匀性仍然很差。在焦磷酸盐体系中得到的膜层比较均匀,但硬度低。在焦磷酸盐体系中添加硅酸盐后,膜层的均匀性和硬度都得到改善。XRD结果表明,膜层的主要成分为单斜氧化锆和四方氧化锆。添加硅酸盐后,有利于四方氧化锆的形成。极化曲线结果表明,在焦磷酸盐以及焦磷酸盐与硅酸盐混合体系中得到的膜层具有较强的耐蚀性。
简介:面罩主体是供氧面罩中一个十分重要的橡胶件,其形状曲折复杂,厚度变化大,最薄处仅为0.7mm,面罩主体裙围需与人的脸部造型完全吻合。通过对面罩主体的形体分析,在裙边与裙围转接处存在着弓形高“障碍体”,橡胶模便采用了二次分型的方法,使得凸模与凹模及凸模与中模都能够分型,成型面罩主体型腔的中模,是一个大的凸台“障碍体”。面罩主体的脱模,是利用了硅橡胶面罩主体的弹性,采用了手工剥离或吹入压缩空气使其膨胀脱模的形式。在距凹模模腔0.2mm的沿周,制有1.5mm×90°的余胶槽,余胶进入余胶槽中形成飞边,凹槽边缘与型腔边缘所形成的0.20mm刃口,当面罩主体压制后脱模时,飞边能自动被刃口切落。模具结构的形式,实现了面罩主体顺利成型和脱模及飞边的处理。
简介:耳前,原子氧剥蚀效应研究仍然是空间环境效应研究中最活跃的方向之一。在概括地介绍低地球轨道环境的同时,分析了铝在原子氧环境中的氧化行为、氧化膜的形成机理和氧化铝膜的破裂等情况。基于离子溅射效应已经广泛应用在现代工业和科学研究中,分析当前溅射产额研究状况,采用半经验公式和TRIM程序计算铝被原子氧和离子氧轰击后的溅射产额和腐蚀速度,并与重离子He离子、Ar离子、Fe离子轰击Al的溅射产额比较;分析发现在原子氧环境中,离子对铝材料溅射同样满足溅射产额的变化规律;最后提出铝在原子氧环境中的防护方法。通过上述的分析和研究,得出了相关性的结论、展望和存在的问题。