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氢氧化钠对碱性蚀刻
液
影响的研究
作者:
刘颂颜;吴清清
学科:
电子电信
>
微电子学与固体电子学
创建时间:2016-11-21
出处:
《印制电路信息》
2016年第11期
简介:
文章分析印制板碱性蚀刻前工艺水洗残留氢氧化钠对蚀刻速度的影响及原理,实验和实践结果表明,减少或避免氢氧化钠带入碱性蚀刻
液
可以保持蚀刻速率的均匀性和蚀刻
液
的稳定。
标签:
氢氧化钠
碱性蚀刻
沉淀
蚀刻速率
PCB
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氢氧化钠对碱性蚀刻
液
影响的研究
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