简介:在不同的溅射功率和溅射时间下,使用磁控溅射设备制备了系列薄膜Si/Fe(P1W,T1s)和Si/[Fe(P2W,T2s)/NiO(P3w,T3s)]10。利用小角X射线衍射测量了样品的衍射强度分布,并分别计算出了Fe和NiO在不同溅射功率下的沉积速率。实验结果表明,在测量范围内沉积速率与溅射功率之间存在线性关系。
简介:摘要场或场质是大于等于光速的高速运动较连续物质状态。场质通常以实物或粒子为源头或归宿,使物体、粒子与场质构成不可分割地联系在一起,如引力体、磁体、带电体等。两实物体周围同类场质邻外侧重叠,若构成状态不平衡不对称,则会在平衡对称趋势中,使实物体移动。并提出物质极限速度不是光速c而为¢=1.41c,电暂态性等重要观念。
简介:文章以“微粒间作用力”之《化学键》的课堂教学为例,从能量观和微粒观方面进行了基于培养学生化学学科基本观念的教学设计。
简介:摘要本文基于磁控溅射的磁场分布水平和磁场强度在镀膜性能与质量上影响与价值分析,结合磁控靶材的结构及其磁场的计算方法和步骤的探讨,以及利用ANSYS软件对磁控溅射靶磁场的分布及其相关参数作二维的模拟与分析,对影响磁控溅射磁场分布和磁场强度的主要素和作用机制作详细的分析,以为优化磁控溅射靶的设计,达到正常溅射工作对靶材表面磁场分布及大小的要求提供借鉴与参考。
简介:用直流磁控溅射技术在室温下制备了厚度为108和215nmAu膜。利用常规CBD扫描模式对Au膜微结构进行分析。XRD分析表明Au膜在平行于基片表面沿〈111〉方向择优生长;薄膜的晶格常数与金粉末的晶格常数(a=4.0862F)一致,晶粒尺寸随膜厚变化不明显。
简介:摘要:封装测试是半导体产业的重要环节。与全球市场稳步增长相比,中国半导体封测市场以 20%的年复合增长率遥遥领先,其中专业代工占国内一半以上市场份额。 2017-2020年中国大陆新建晶圆厂将超过 20个,连同邻近的封测厂,成为全球半导体产业新增产能的核心区域。中国半导体封测产业将走向美好的春天。溅射工艺是半导体封装的重要环节之一,如房屋的地基,及其工艺性能测试安要求,进行需求测试,从而做半导体芯片功能性工艺测试设备应用技术的研究。
简介:摘要:通过对 阴极溅射靶、镀膜室以及真空系统分子泵等的设计理念进行概述,并针对某一种多靶磁控溅射镀膜设备进行了分析和研究。 通过对该设备进行镀膜工艺的处理,以此来判定镀膜设备是否符合工艺要求 [1]。
简介:摘要:我们常见的镀膜方法有物理气相沉积镀膜(简称PVD)和化学气相沉积镀膜(简称VCD)。物理气相沉积镀膜主要分为三类:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。本文介绍的镂空镀膜涉及的镀膜方法是真空溅射镀膜。真空溅射镀膜技术是目前大批量镀膜玻璃生产中最主要的技术之一,它具有膜层厚度均匀、基片温度低、沉积速度快等一系列优点。镂空镀膜与传统追求的膜层均匀完整有所区别,简而言之,镂空镀膜就是采用不同的方法使完整的膜层表现出镂空图案效果。
简介:
简介:一个成年人每天吸进肺内的空气量高达1万升以上、许多肉眼看不到的空气微粒、随之进入呼吸道。直径在15微米以上的微粒,大多可在鼻腔被清除,直径在2~10微米的微粒,90%落在气管、支气管上。直径在0.5~2微米的微粒则进入肺泡并沉积下来。因此,空气微粒对健康
简介:它们小小的,五颜六色的身影,隐藏在一瓶瓶、一罐罐或膏状或液状的面霜、精华素、化妆水,甚至是面膜中。别看它们只是小小的颗粒,却能够产生巨大的威力——通过按摩,它们能够将自身的能量瞬间释放,并融入皮肤,为皮肤带来一次特别的SPA护理。
简介:在室温200℃的范围内,对磁控溅射制备NZnO薄膜性能进行了研究。实验中,以ZnO为阴极靶材,通过温度调节器对基片溅射温度进行控制,以实现对ZnO溅射薄膜特性的控制。系统真空度为3×10^4Pa,溅射气压为5.5Pa,溅射时N90min,通过XRD进行表征,用Jade5.0软件分析,结果表明,制备出ZnO薄膜表面平整、结构致密,具有高度c轴择优取向;在室温200℃的范围内,随着温度的升高,(002)衍射峰的位置趋向34.4°。
简介:运用SRIM2006软件对靶材的溅射进行了模拟,计算了各种情况下离子入射靶材能量损失和射程分布,分析其内部碰撞机理,得到了入射离子能量损失和射程分布随离子能量得变化规律:低能离子溅射能量损失以核阻止为主,高能离子溅射能量损失以电子阻止为主;载能离子的能量损失及射程与入射离子和靶原子有关;对于低能离子溅射靶材,入射离子主要分布在靶材表面几层原子内。
简介:介绍了磁控阴极溅射系统的工作原理和故障维修。
简介:为保证制造精度,对机械加工后的聚氨酯泡沫塑料制件,采取镀前表面封闭处理、刮涂腻子、喷涂底漆和磁控溅射镀不锈钢的工艺路线;井对过程中主要工艺参数控制特别是铰膜的温度控制作了详细的研究。
简介:摘 要:通过介绍巨磁电阻、隧道磁电阻效应、磁耦合器装置、磁随机存储器的研发情况,说明了磁电子的发展现状和概况。详细探讨了磁电子的应用方向,包括转动检测、无损检测、自动跟踪、电流检测、汽车传感器、微粒传感器、震动与脉博传感器、爆炸物探测等,说明磁电子的研究对国防、工业、生活等方面产生了重要影响。
简介:在化学计算中,可根据微粒数计算溶液的质量分数.例一密闭容器中装有H2、O2、Cl2的混合气体,其分子个数比为22:10:2.点燃、充分反应后冷却.
磁控溅射薄膜沉积速率的标定
磁电物性理论
以“微粒间作用力”为例建构微粒观
磁控溅射靶磁场的模拟优化设计
直流磁控溅射Au膜微结构研究
半导体溅射 &真空应用及其设备技术
多靶磁控溅射镀膜设备及其特性
浅谈真空磁控溅射镂空镀膜的方法
探索更小的微粒
健康大敌 空气微粒
悬浮微粒灭火装置
小微粒 大威力
溅射温度对ZnO薄膜性能影响的研究
离子溅射能量损失及射程的模拟研究
磁控溅射镀膜机系统的故障分析
直流反应磁控溅射TiN薄膜表面形貌研究
聚氨酯泡沫塑料磁控溅射镀膜工艺研究
磁电子发展概况及其应用
微粒数与质量分数
10电子微粒与试题