简介：摘要：连杆作为发动机的关键核心零件之一，其加工精度和表面质量对使用有很大的影响。由于连杆装在曲轴箱内，其表面清洁程度对整机清洁度也有较大的影响。本文应用自由滚磨技术，设计了连杆抛光机；其目的是综合提高连杆表面外观质量，改善物理力学性能，降低表面粗糙度值，提高表面硬度和耐磨性，从而提高发动机的使用寿命。

简介：

简介：摘要：在确保温度控制的同时，需要对影响温度的一些因素进行解决，来有效增加抛光液的温度控制。本文针对了光学冷加工抛光液温度控制系统原理进行分析，通过提出了抛光表面损伤检测、抛光去损伤机理、加工表面损伤改善三项控制系统的研究，证明了光学冷加工抛光液温度控制系统的重要性。

简介：摘要自动抛光机在实际应用过程中，可以根据已下达的指令，完成抛光工艺的一系列操作，这样不仅有利于提高抛光效率，而且还能够保证抛光质量。本文针对自动抛光机的具体设计情况进行分析，并且对抛光结构的受力情况进行研究，为自动抛光机的实际应用效果提供有效保障。

简介：目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析,供大家参考。

简介：现有的抛光砖生产工艺由于在抛光阶段会产生大量的废渣．很难直接回收利用．从而对周边环境造成极大的破坏。其中抛光废渣中含有氯氧镁水泥等杂质是造成抛光废渣直接回收利用时产生坯体膨胀、针孔、变形等缺陷的最重要原因。针对现有的抛光砖在抛光阶段产生大量的废渣难于直接回收再用的难题，本文提出了分类回收、自然沉降、分开使用的最优处理思路，创新性地丰富了抛光废渣回收领域的技术内涵。

简介：国产金刚石工具已在瓷质砖加工中得到广泛的应用。本文重点分析了瓷质砖坯的一般性能特征，及主要应用工具的加工原理和特性。对适用的金刚石品种及市场前景进行了探讨。

简介：基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。

简介：摘要为了抑制抛光粉纳米颗粒的团聚，改善抛光液的性能，使光学玻璃获得更高的抛光速率与更低的表面粗糙度，在氧化铈抛光液中添加阴离子表面活性剂梅迪兰，研究了梅迪兰质量分数对抛光液中粒子粒径、分散性以及材料去除率和抛光后光学玻璃表面粗糙度的影响。

简介：

简介：摘要介绍大米抛光的原理及原因，分析大米抛光的利弊。

简介：【摘要】随着科技水平的进步，社会生产力的发展，机械产品体现出精密化的特点。产品设备的精密化对机械零件质量有了更高的要求，比如零件表面质量和功能性边缘的精度要求、加工稳定性要求等，在这些严格化的要求下，传统零件加工工艺不再适应。作为机械制造业的重要一环，精密零件的精加工需要集中的劳动力，这部分的控制工作十分困难。一般情况下，生产制造的所有成本中，单加工费用就占到了15%的比例，加工过程中去毛刺、抛光等存在的现实问题，成为生产全自动化发展进步的阻碍。行业内研究人员针对精密机械零件加工进行了深入研究，同时借鉴国外对机械零件表面处理的新工艺方法，形成了适合我国机械制造需求的新加工工艺。基于此，本文便结合实际，对精密机械零件去毛刺、抛光加工两方面的工艺应用展开分析。

简介：摘要宝石（Sapphire）是一种氧化铝（α-Al2O3）的单晶，又称为刚玉。蓝宝石单晶具有熔点高(2040℃)，硬度高(莫氏硬度9)，化学性能稳定，电绝缘性好，具有良好的热特性、极好的电气特性和介电特性，特别是具有优良的红外透过率等特性。在半导体领域中，主要是使用蓝宝石作为制备GaN薄膜的衬底，它与GaN之间的晶格常数失配率小，是目前最主要的GaN外延基片材料之一。

简介：本公司针对抛光粉传统生产方法中生产周期长,产品在使用时不易分散等缺点,进行了较长时间的研究,结果表明:新方法具有粒度可控制,煅烧后不需湿法研磨,不需湿法筛分等优点。并且,可不用电炉煅烧。这一方法

简介：摘要：为了改善铍青铜试样表面的抛光效果，解决传统机械抛光划痕深浅不一问题，我们研制了一种全新的抛光工艺——电解抛光。电解抛光工艺与溶液浓度、时间、电压等参数密切相关，合理控制与这些工艺参数才能达到理想的抛光效果。

简介：　　摘要：液晶面框模具主要向蒸汽镜面模具方向发展， 蒸汽模镜面抛光的应用越来越广泛。本文详细说明了凹模镜面抛光的基本程序及注意要点。

简介：摘要：本文全面探讨了石英晶片抛光工艺的关键要点，包括抛光前的质量要求、抛光工艺流程、抛光所用材料与设备，以及抛光参数的选择与控制。通过分析抛光过程中遇到的常见问题及其解决策略，旨在为实现石英晶片的高效和高质量抛光提供理论指导和实践参考。通过精细控制抛光参数和优化抛光过程，可以有效提高晶片的表面平整度和减少表面粗糙度，从而满足半导体、光电通讯、精密仪器等领域对高质量石英晶片的需求。

简介：从传统光学冷加工的原理出发，分析了传统接触式加工方法中抛光剂与材料去除深度的理论关系，设计了微晶玻璃超光滑抛光过程中的抛光剂选型试验。通过比较基片的表面质量，摸索出适合微晶玻璃超光滑抛光的最佳抛光剂为金刚石微粉，成功加工出了超光滑微晶光学元件，其表面粗糙度达到0．2nm。

简介：

简介：摘要：工件自动抛光机，由圆台面式自动抛光设备和四周流水式自动抛光设备二种，分别适合平面式或外凸的单一平面小零件的抛光和多平面零件的抛光。由基座及设置在基座上的抛光装置组成，多组电机及相应的抛光轮、工件夹具、转盘、机台、电机、底座组成。可设置多组抛光轮，按工步设计，工件在转盘转动后达到各工步的抛光，运转一周完成工件各工步的抛光，员工只要上、下工件即可。具有操作方便、省时、有效提高抛光质量且可满足大批量抛光需求等特点。