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Oxygen Scavenging Effect of LaLuO3/TiN Gate Stack in High-Mobility Si/SiGe/SOI Quantum-Well Transistors

简介：Higher-κdielectricLaLuO_3,depositedbymolecularbeamdeposition,withTiNasgatestackisintegratedintohigh-mobilitySi/SiGe/SOIquantum-wellp-typemetal-oxide-semiconductorfieldeffecttransistors.Thresholdvoltageshiftandcapacitanceequivalentthicknessshrinkareobserved,resultingfromoxygenscavengingeffectinLaLuO_3withTi-richTiNafterhightemperatureannealing.Themechanismofoxygenscavenginganditspotentialforresistivememoryapplicationsareanalyzedanddiscussed.
标签：金属氧化物场效应晶体管清除作用高流动性锗/硅量子阱

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