学科分类
/ 1
11 个结果
  • 简介:本文分析了用电位差计测量电源电动势的几种补偿法线路,比较优、缺点,说明如何选取最佳方案达到测量精度的要求。

  • 标签: 补偿法 电路分析
  • 简介:TEM喇叭天线因为其较宽的带宽及辐射相位中心的不变性,成为超宽带(UWB)最常用的天线。标准TEM喇叭由两块三角形平板组成,对于低频TEM喇叭天线相当于开端平板传输线,有许多低频能量反射回信号源,这将影响源的工作,在大功率的情况下会对源造成损害。在引入加载低频补偿回路后,可吸收这部分低频能量,并改善天线的低频传输特性及低频辐射特性。

  • 标签: TEM喇叭天线 低频能量 补偿实验 辐射特性 相位中心 低频补偿
  • 简介:根据电磁波理论,对复合绝缘介质同轴结构的传输性能进行了分析,提出了复合绝缘介质同轴结构特性阻抗的共面补偿方法,推导了关键参数的计算公式,设计了3种模型;然后利用高频结构软件对设计模型的电压驻波比进行了模拟计算,并进行了对比分析,讨论了复合绝缘介质同轴结构设计中几个关键参数对电压驻波比的影响。模拟结果表明,提出的共面补偿方法适用于复合绝缘介质同轴结构的特性阻抗补偿,可以降低电压驻波比,从而提高同轴结构的传输性能。

  • 标签: 同轴电缆 共面补偿 参数计算 电压驻波比
  • 简介:本文从欧姆定律、伏安法的视角审视各种补偿法测电阻电路,实际上各种补偿法测电阻电路都是和伏安法一样按欧姆定律方式设计的。实践表明按从消除伏安法测电阻电路系统误差逐步推演出完全补偿法的测电阻电路,再讲授补偿法的原理的思路设计教学,收到了很好的效果。

  • 标签: 测电阻 补偿法 伏安法 电桥法
  • 简介:低压化学气相淀积(LPCVD)设备主要为微电子机械系统(MEMS)在硅基片上淀积Si3N4、Poly-Si(多晶硅)、SiO2薄膜。承担形成微传感器和微执行器的抗蚀层、结构层和牺牲层的加工任务。是MEMS技术中的主要生产工序之一,也可以用于集成电路钝化膜制备。

  • 标签: 低压化学气相淀积 微电子机械系统 硅基片 二氧化硅薄膜
  • 简介:利用晶体管直流增益随中子辐照注量的变化关系,建立了基于电压补偿的晶体管直流增益在线测试系统,以模块化软件架构设计方法及电压回读技术,实现了不同辐照功率下晶体管直流增益的实时监测,获得了辐照期间晶体管器件敏感参数的变化规律。结果表明,在不同中子注量辐照下,研制的直流增益在线测试系统可满足晶体管损伤效应的实时测量要求,系统的测试精度达0.2%。

  • 标签: 中子辐照 中子注量 电压补偿 双极晶体管 直流增益
  • 简介:特性阻抗匹配是同轴电缆转接设计中的基本要求。分析了特性阻抗匹配中轴向错位补偿方法的不足,提出了基于二端口网络的同轴电缆特性阻抗的轴向错位补偿计算方法,并计算了几种不同绝缘介质同轴电缆转接设计中的轴向错位补偿值。利用高频结构软件对计算结果进行了电缆传输性能模拟,结果表明,该方法适用于同轴电缆转接设计,可以降低电压驻波比,从而提高电缆传输性能。

  • 标签: 射频同轴电缆 连接器 阻抗补偿 电压驻波比
  • 简介:采用自编的数值模拟程序,数值模拟了激光在大气传输中的聚焦不等晕性,分析了不同激光波长、激光发射口径、大气湍流强度及信标光高度下,聚焦不等晕性对激光发射自适应光学系统波前校正的影响,数值模拟结果与解析公式计算结果吻合较好。数值模拟结果表明,在其他条件不变的情况下,激光发射口径越大,或者湍流强度越强,聚焦不等晕性对激光发射自适应光学系统波前校正的影响就越大;激光导星的高度越高,聚焦不等晕性的影响越小。

  • 标签: 聚焦不等晕性 激光导星 激光发射自适应光学系统 数值模拟
  • 简介:一铅铸件采用“外层块状成形冷铁配内侧整体成形冷铁”的工艺,在确定工艺参数时,如果设计的浇注充型压力、充型速度不适当,金属液就易出现紊流,导致卷入气体而形成气孔、渣孔等铸造缺陷。因此,在进行实际浇注试验前,运用华铸CAE/InteCAST铸造模拟系统对设计的浇注工艺进行了充型及凝固过程的数值模拟,分析充型及凝固过程中流动场、温度场的变化情况,以确定适合的工艺参数值。

  • 标签: 工艺应用 低压铸造 CAE系统 铸件 充型速度