简介：高锰酸钾去钻污法是目前除胶渣流程广泛使用的方法,具有稳定性好,经济高效,便于操作等优点。随着各个PCB生产企业生产流程和工艺的不同,所采用的浸槽时间也不尽相同,溶胀与去钻污时间配合不好,会造成孔内钻污去不净或者过蚀的现象,所以正确掌握溶胀与去钻污的配合时间对PCB生产企业有着重要的意义。
简介：当孔壁表面温度超过环氧树脂的玻璃化温度时，会产生一层薄的树脂钻污近年来ROSH标准的实施及对电子产品的要求提高，更高Tg板材的使用越来越多本文希望通过实验，为合理选用溶胀剂提供参考：
简介：北京博达微科技有限公司（PDA）日前宣布出展中国天津第22届IC设计年会（ICCAD），展台号为#B73，并展出最新推出的新一代噪声特性测量仪器NC300，NC300基于优秀的架构设计，系统集成化高，不依赖任何其他仪器，安装便捷，即插即用，多类型器件支持：MOSFET、MOSSOI、BJT、Diode、Resistor，以及SRAMCell等客户定制电路。
简介：本文给出了利用0．18umCMOS工艺设计的5．2GHz低噪声放大器。在1．8V电压下，工作电流为24mA增益为15．8dB噪声系数为1．4dB.
溶胀与去钻污时间的匹配
多层板去胶渣工艺中溶胀剂的研究
博达微科技推出低频噪声测试及仿真系统NC300
1．8V 5．2GHz差分结构CMOS低噪声放大器
