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薄膜物理与制备

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摘要薄膜物理与制备技术研究对于惯性约束聚变(ICF)实验具有重要意义，2003年开展的研究工作主要包括几个方面的内容：低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)法微球CH涂层及掺杂(溴等)技术研究；脉冲激光沉积(PLD)法Fe／Al合金薄膜研制；磁控溅射法Au／Gd，Ti／A1，Ti／Cr支撑薄膜研制；碳氢氮(CxNyH1-x-y)薄膜制备技术研究。相应主要结果如下：(1)利用低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)装置深入考察了以反式-2-丁烯如下：

DOI 5jo228364v/349636

作者吴卫东;冯建鸿;黄勇;许华;陈志梅;唐晓虹;罗江山

机构地区不详

出处《中国工程物理研究院科技年报》 2003年1期

关键词薄膜物理制备工艺惯性约束聚变实验低压等离子体化学气相沉积磁控溅射法

分类 [理学][物理]

出版日期 2003年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）