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中束流离子注入均匀性的工艺控制

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摘要摘要：要实现中束流离子注入就必须做好剂量的控制，这就需要做好剂量控制技术的精度把控工作，其将会直接影响到晶元中离子的掺杂水平，对半导体的制作也有一定影响。在对其剂量进行控制的过程中，系统由测量、冷却和注入这几个硬件系统和对束流的数据进行有效采集，对剂量进行控制和发生异常时对异常进行处理的算法系统所构成。本文就离子注入机进行了讲解，就如何实现大束流离子注入的控制进行了讲解。

DOI 3j7yvpzmj1/6215329

作者丁伯继

机构地区杭州士兰集昕微电子有限公司浙江杭州 310018

出处《中国科技信息》 2022年7期

关键词中束流离子注入工艺控制

分类 [][]

出版日期 2022年07月19日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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