简介：摘要：要实现中束流离子注入就必须做好剂量的控制，这就需要做好剂量控制技术的精度把控工作，其将会直接影响到晶元中离子的掺杂水平，对半导体的制作也有一定影响。在对其剂量进行控制的过程中，系统由测量、冷却和注入这几个硬件系统和对束流的数据进行有效采集，对剂量进行控制和发生异常时对异常进行处理的算法系统所构成。本文就离子注入机进行了讲解，就如何实现大束流离子注入的控制进行了讲解。
简介：摘要：现代考试均是选择项目功能差异(DifferentialItem Functioning，DIF)对该问题进行检测与研究。作为判断测验公平性与评估效度的工具，DIF检测已成为全球公认的标准化考试质量分析手段。本研究运用Monte Carlo模拟对MH、LR这两种不同的DIF检测方法做出比较。
中束流离子注入均匀性的工艺控制
两种DIF检测方法的模拟研究
