在过去的十年，nanopores为各种各样的潜在的应用程序广泛地被开发了，并且他们的性能极大地取决于nanopores的表面性质。原子层免职(ALD)是为扔薄电影的一种新技术，它很快从一种壁龛技术被开发了到一个确定的方法。ALD电影能保角地甚至在nanoscale在限制区域盖住表面，因此，是一个强大的工具修改合成nanopores并且也的表面制作复杂nanopores被证明。这评论在nanopore合成和ALD基本知识上给简短介绍，然后集中于由ALD和他们的应用程序处理的合成nanopores的各种各样的方面，包括单个分子的察觉到，nanofluidic设备，nanostructure制造和另外的应用程序。
