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5 个结果
  • 简介:Geepilayersofdifferentthicknessesaregrownbymolecular-beamepitaxywithSbasasurfactantonSI(100)substrates,X-raydiffractionillustratesthattheseGethinfilmsarepartiallystrained.andthestrainsdecreasegraduallywithincreasingepilayerthickness,RamanspectrarevealadownwardshiftoftheGe-Gemodepeakastheepilayerthicknessincreases.Intheregionsofhighstrain,therelationshipbetweentheRamanshiftofthismodeandthestraininthepartiallyrelaxedsamplesisconsiderablydifferentfromthelinearrelationshipreportedbefore,whichismainlyattributedtothespatialconfinementeffectofphononsinananocrystal.

  • 标签: 镓外延薄膜 硅衬底 形变研究
  • 简介:利用同步辐射掠入射和常规X射线衍射,对Si(001)衬底上自组织生长Ge量子点组分和应变进行了研究。结果表明量子点为50%应变驰豫的GeSi合金量子点,其Ge组分为0.55。此外在掠入射X射线衍射Si(220)峰的高角旁观察到另外一个峰,对应于量子点周围衬底中由成岛引起的压应变。

  • 标签: Si(001)衬底 自组织生长 Ge 量子点 组分 应变
  • 简介:低温下用MBE方法生长了Ge/Si超晶格。X射线近边吸收限精细结构研究表明,Ge与Si再Ge/Si界面处存在化学混合。X射线反射及横向散射研究表明,Ge亚层上下表面的粗糙度呈反对称,下表面大的粗糙度来源于Ge向Si亚层中扩散形成SiGe混合组分结构:这种组分结构可以用一平均成份的SiGe合金层加以拟合,从而使得各亚层均有一个合理的粗糙度。旋转样品进行的X射线散射研究表明,这种SiGe的混合是各向同性的,这与透射电子显微镜的研究结构相一致。

  • 标签: Ge/Si超晶格 界面结构 X射线 粗糙度 纳米结构 光电特性
  • 简介:GaInP/GaAs/Getriple-junctionsolarcellswereirradiatedwith50keVand100keVprotonsatfluencesof5×1010cm-2,1×1011cm-2,1×1012cm-2,and1×1013cm-2.Theirperformancedegradationisanalyzedusingcurrent-voltagecharacteristicsandspectralresponsemeasurements,andthenthechangesinIsc,Voc,Pmaxandthespectralresponseofthecellsareobservedasfunctionsofprotonirradiationfluenceandenergy.Theresultsshowthatthespectralresponseofthetopcelldegradesmoresignificantlythanthatofthemiddlecell,and100keVproton-induceddegradationratesofIsc,VocandPmaxarelargercomparedwith50keVprotonirradiation.

  • 标签: 太阳能电池 质子辐照 GAINP 砷化镓 能量密度 光谱响应