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  • 简介:秦山第三核电厂CANDU-6型重水堆已经进入商业运行阶段,上海监督站在对重水堆监督过程中遇到了一些新问题,如重水泄漏与损失、燃料棒束包壳破损以及在电厂大修期间由启动仪表导致第一停堆系统误动作等.本文就这些特殊问题处理原则进行探讨,并提出了自己见解.

  • 标签: 核安全监督 CANDU堆 事件报告
  • 简介:本文就极限概念作了进一步阐述。指出不应把探测极限和不同定义探测仪器指标混用。“本底”一词也有不同含义,应用时亦应慎重。文中还讨论了判“无”限实际使用问题。本文认为应分清检测客观可能性与主观愿望区别。

  • 标签: 辐射监测 统计检验 灵敏度分析
  • 简介:本文描述了用于测定中子、γ辐射墙中中子、γ辐射吸收剂量或比释动能双剂量计γ辐射校准,并测定了各项修正因子,给出了剂量计校准因子其不确定度为1.4%,并校准了BIM提供传递仪器,进行了比对,其结果相差小于1.0%。

  • 标签: 双剂量计 校准 比对 组织等效
  • 简介:1设计和前期工程质量概况秦山核电厂建设中始终受到中央及有关省市各级领导重视和关怀,从人力、物力和经费上给予保证,并要求核电厂安全要做到“万无一失”。实行设计师、主任设计师负责制,建立了一系列设计管理制度,包括设计准则,计算、分析、技术条件、图纸和图表制备。对设计文件编制、审核、批准、分发、修订和保存作出了具体规定,并广泛收集国际上核电国家标准和规范。1984年制定出“核蒸汽供应系统及所属设备分级暂行规定”(728DS7a—84),1986年又对设备、系统安全分级、抗震分类进行了补充和调整,使得各项设计质量得到保证。

  • 标签: 秦山核电 核电厂安全 核蒸汽供应系统 质量保证 前期工程 国家核安全局
  • 简介:当散射体系中除散射体外还存在微电子密度起伏时,实测散射强度将形成对Porod定理正偏离,从而使散射体散射失真。提出了一种在长狭缝准直条件下应用模糊强度校正正偏离方法:作出ln[q^3I^-(q)]-q^2曲线,用公式n[q^3I(q)]=InK'+σ^2q^2拟合大波矢区直线,求出斜率σ^2,作出ln[q^3I^-(q)]-σ^2q^2-q^2曲线即为无偏离Porod曲线,由此曲线再还原出无偏离散射强度,即I^-'(q)=exp{ln[q^3I^-(q)]-σ^2q^2}/q^3,再以醇热法合成介孔氧化锆粉体为例进行了讨论。

  • 标签: 小角X射线散射 Porod定理 正偏离 校正 介孔氧化锆粉体 醇热法
  • 简介:从两个方面探讨金属拉伸试验试样有效性,一是要避免试样所具有的被测性能指标的“真值”明显地高于其所代表实际产品所具有的被测性能指标的“真值”,二是要避免试样所具有的被测性能指标的“真值”明显地低于其所代表实际产品所具有的被测性能指标的“真值”。结合核安全审评和监督过程中遇到实际问题,从不同角度解读法规条文。以理论分析为基础,并考虑到现实可操作性,对今后相关核安全审评提出建议。

  • 标签: 金属拉伸试验 试样 有效性 金属材料 民用核设施
  • 简介:利用同步辐射(BSRF)漫散射站四圆衍射仪,对SiC体单晶结构进行了判定以及对利用常压化学气相沉积(APCVD)生长3C-SiC/Si(001)中孪晶及含量进行了分析。六方{10-15}极图证明了该SiC单晶为6H(H为Hexagonal缩写)结构。对3C-SiC外延薄膜,Φ扫描证明了3C-SiC外延生长于Si衬底上,外延取向关系为:(001)3C-SiC//(001)Si,[111]3C-SiC//[111]Si。3C-SiC{111}极图在x=15.8°出现了新衍射,采用六方{10-10}极图以及基体倒格点111、孪晶倒格点002Mapping分析了x=15.8°处产生衍射为3C-SiC孪晶所致,并利用ω扫描估算了孪晶含量约为1%。

  • 标签: X射线四圆衍射仪 SiC体单晶 3C-SiC外延层 孪晶 APCVD 碳化硅
  • 简介:采用Czochralski法,我们成功地生长了大尺寸GdCa4O(BO3)3单晶。在对晶体完整性进行检测过程中发现:晶体中存在亚晶界,该晶界贯穿整个大单晶。由于亚晶界两边单体存在取向差,在同步辐射形貌像中可观察到像漂移。根据高分辨X射线衍射所确定取向差,我们计算了对应几个典型衍射形貌像漂移,计算结果与从形貌像中测量结果符合得很好。

  • 标签: GdCa4O(BO3)3晶体 小角晶界 同步辐射 形貌 像漂移 非线性光学晶体
  • 简介:同步辐射软X射线(白光)对InP表现进行了辐照。并对样品表面电子结构作了UPS和XPS分析。结果显示,样品表面电子态变化明显,P3a峰化学位移大于In4d峰。与In非键合P2p峰面积辐照后显著增加。说明软X射线对InP表现F原子电离损伤要大于In原子。

  • 标签: 软X射线 INP 表面微结构 磷化铟 半导体 电离损伤